Gasaichean sònraichte
-
Sulfar Tetrafluoride (SF4)
EINECS NO: 232-013-4
Àireamh CAS: 7783-60-0 -
Nitrous Oxide (N2O)
Tha nitrous oxide, ris an canar cuideachd gas gàire, na cheimigeach cunnartach leis an fhoirmle ceimigeach N2O. Is e gas gun dath, le fàileadh milis a th’ ann. Tha N2O na oxidant a bheir taic do losgadh fo chumhachan sònraichte, ach tha e seasmhach aig teòthachd an t-seòmair agus tha beagan buaidh anesthetic aige. , agus bheir e air daoine gàire a dhèanamh. -
Carbon Tetrafluoride (CF4)
Tha carbon tetrafluoride, ris an canar cuideachd tetrafluoromethane, na ghas gun dath aig teòthachd agus cuideam àbhaisteach, do-ruigsinneach ann an uisge. Is e gas CF4 an-dràsta an gas sgudail plasma as fharsainge a thathas a’ cleachdadh ann an gnìomhachas microelectronics. Tha e cuideachd air a chleachdadh mar ghas leusair, fuaradair cryogenic, solvent, bealaidh, stuth inslitheach, agus fuaradair airson tiùban lorgaidh infridhearg. -
Fluoride sulfuryl (F2O2S)
Tha sulfuryl fluoride SO2F2, gas puinnseanta, air a chleachdadh sa mhòr-chuid mar insecticide. Leis gu bheil feartan sgaoilidh làidir agus permeability aig sulfuryl fluoride, insecticide speactram farsaing, dòs ìosal, tomhas ìosal air fhàgail, astar luath insecticidal, ùine sgaoilidh gas goirid, cleachdadh goireasach aig teòthachd ìosal, gun bhuaidh air ìre germachaidh agus puinnseanta ìosal, is ann as motha Tha e air a chleachdadh barrachd is barrachd ann an taighean-bathair, soithichean bathair, togalaichean, damaichean lochan-tasgaidh, casg termite, msaa. -
Sìne (SiH4)
Tha Silane SiH4 na ghas teannachaidh gun dath, puinnseanta agus glè ghnìomhach aig teòthachd agus cuideam àbhaisteach. Tha Silane air a chleachdadh gu farsaing ann am fàs epitaxial silicon, stuthan amh airson polysilicon, silicon oxide, silicon nitride, msaa, ceallan grèine, snàithleach optigeach, saothrachadh glainne dhathte, agus tasgadh bhalbhaichean ceimigeach. -
Octafluorocyclobutane (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, purrachd gas: 99.999%, gu tric air a chleachdadh mar inneal aerosol bìdh agus gas meadhanach. Tha e air a chleachdadh gu tric ann am pròiseas semiconductor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition), C4F8 air a chleachdadh mar neach-ionaid airson CF4 no C2F6, air a chleachdadh mar ghas glanaidh agus gas sìolachaidh pròiseas semiconductor. -
Nitric Oxide (chan eil)
Tha gas nitric oxide na mheasgachadh de nitrigin leis an fhoirmle ceimigeach NO. Is e gas puinnseanta gun dath, gun bholadh a th’ ann nach fhaighear ann an uisge. Tha nitric oxide gu math reactive gu ceimigeach agus ag ath-fhreagairt le ocsaidean gus an gas creimneach nitrogen dà-ogsaid (NO₂) a chruthachadh. -
Hydrogen Chloride (HCl)
Is e gas gun dath a th’ ann an HCL chloride hydrogen le fàileadh làidir. Canar searbhag hydrochloric ris an fhuasgladh uisgeach aige, ris an canar cuideachd searbhag hydrochloric. Bithear a’ cleachdadh clorid haidridean sa mhòr-chuid airson dathan, spìosraidhean, cungaidhean-leighis, diofar chlorides agus luchd-bacadh creimeadh a dhèanamh. -
Hexafluoropropylene (C3F6)
Tha hexafluoropropylene, foirmle ceimigeach: C3F6, na ghas gun dath aig teòthachd agus cuideam àbhaisteach. Tha e air a chleachdadh sa mhòr-chuid airson grunn thoraidhean ceimigeach grinn anns a bheil fluorine, eadar-mheadhanan cungaidh-leigheis, riochdairean smàlaidh teine, msaa ullachadh, agus faodar a chleachdadh cuideachd airson stuthan polymer anns a bheil fluorine ullachadh. -
Ammonia (NH3)
Tha ammonia leaghte / ammonia anhydrous na stuth amh ceimigeach cudromach le raon farsaing de thagraidhean. Faodar ammonia leaghaidh a chleachdadh mar fhuaradair. Tha e air a chleachdadh sa mhòr-chuid airson searbhag nitric, urea agus todhar ceimigeach eile a dhèanamh, agus faodar a chleachdadh cuideachd mar stuth amh airson cungaidh-leigheis agus puinnseanan. Anns a’ ghnìomhachas dìon, thathas ga chleachdadh airson propellants a dhèanamh airson rocaidean is urchraichean.
