Carbon Tetrafluoride (CF4)

Paramadairean Teicnigeach

Tha carbon tetrafluoride na hydrocarbon halogenated leis an fhoirmle ceimigeach CF4.Faodar a mheas mar hydrocarbon halogenated, meatan halogenated, perfluorocarbon, no mar todhar neo-organach.Is e gas gun dath agus gun bholadh a th’ ann an carbon tetrafluoride, so-sgaoilte ann an uisge, soluble ann am benzene agus cloroform.Seasmhach fo theodhachd is cuideam àbhaisteach, seachain oxidants làidir, stuthan lasanta no lasanta.Gas neo-losgaidh, àrdaichidh cuideam a-staigh an t-soithich nuair a bhios e fosgailte do theas àrd, agus tha cunnart ann gun tèid sgàineadh is spreadhadh a dhèanamh.Tha e seasmhach gu ceimigeach agus neo-lasanta.Is e dìreach inneal meatailt ammonia-sodium leaghaidh a dh’ obraicheas aig teòthachd an t-seòmair.Is e gas a th’ ann an carbon tetrafluoride a dh’ adhbhraicheas buaidh taigh-glainne.Tha e gu math seasmhach, faodaidh e fuireach san àile airson ùine mhòr, agus tha e na ghas taigh-glainne glè chumhachdach.Bithear a’ cleachdadh carbon tetrafluoride ann am pròiseas sìolachaidh plasma de dhiofar chuairtean amalaichte.Tha e cuideachd air a chleachdadh mar leusair gas, agus tha e air a chleachdadh ann an teòthachd ìosal fuarain, solvents, bealaidh, insulating stuthan, agus coolants airson infridhearg detectors.Is e seo an gas sgudail plasma as motha a thathas a’ cleachdadh ann an gnìomhachas microelectronics.Tha e na mheasgachadh de ghas àrd-ghlan tetrafluoromethane agus gas àrd-ghlan tetrafluoromethane agus ocsaidean fìor-ghlan.Faodar a chleachdadh gu farsaing ann an silicon, silicon dà-ogsaid, silicon nitride, agus glainne fosphosilicate.Thathas cuideachd a’ cleachdadh stuthan film tana leithid tungsten agus tungsten ann an glanadh uachdar innealan dealanach, cinneasachadh cealla grèine, teicneòlas laser, fuarachadh aig teòthachd ìosal, sgrùdadh aodion, agus inneal-glanaidh ann an cinneasachadh cuairteachaidh clò-bhuailte.Air a chleachdadh mar inneal fuarachaidh aig teòthachd ìosal agus teicneòlas sgudail tioram plasma airson cuairtean aonaichte.Rabhaidhean airson stòradh: Bùth ann an taigh-bathair fionnar, fionnaraichte neo-losgaidh.Cùm air falbh bho stòran teine ​​​​is teas.Cha bu chòir an teòthachd stòraidh a bhith nas àirde na 30 ° C.Bu chòir a stòradh air leth bho stuthan losgaidh agus oxidants a tha furasta an lasadh, agus seachain stòradh measgaichte.Bu chòir an raon stòraidh a bhith uidheamaichte le uidheamachd làimhseachaidh èiginn aodion.

Iarrtas:

① Refrigerant:

Bidh tetrafluoromethane uaireannan air a chleachdadh mar fhuaradair aig teòthachd ìosal.

② a 'seargadh:

Tha e air a chleachdadh ann am microfabrication eileagtronaigeach leis fhèin no ann an co-bhonn ri ocsaidean mar eisempleir plasma airson silicon, silicon dà-ogsaid, agus silicon nitride.

Pacaid àbhaisteach:

Buannachd:

①High purity, goireas as ùire;

Dèanadair teisteanas ②ISO;

③Lìbhrigeadh luath;

④ Siostam sgrùdaidh air-loidhne airson smachd càileachd anns a h-uile ceum;

⑤High riatanas agus pròiseas mionaideach airson làimhseachadh siolandair mus lìonadh;