Dè na gasaichean searbhagach a tha cumanta ann an searbhagan tioram?

Is e teicneòlas salach tioram aon de na prìomh phròiseasan. Tha gas siorraidh tioram na phrìomh stuth ann an saothrachadh semiconductor agus stòr gas cudromach airson searbhagachd Plasma. Tha an coileanadh aige a 'toirt buaidh air càileachd agus coileanadh an toradh deireannach. Tha an artaigil seo mar as trice a 'roinn na tha a' cleachdadh gaothean searbh a 'cleachdadh anns a' phròiseas searbhagan tioram.

Gasaichean stèidhichte air fluorine: leithidCarbon Tetrafulide (CF4), Hexafluororoche (c2f6), Trifluroromee (CHF3) agus perfluoropropone (c3f8). Faodaidh na gasaichean sin gu h-èifeachdach a 'gineadh gu h-èifeachdach nuair a bhios iad a' suirghe silicon silicon agus silicon, mar sin a 'coileanadh toirt air falbh stuthan.

Gases stèidhichte air clorine: leithid clorine (CL2),Boron Trichride (BCL3)agus silicon TetrachlidLide (SICL4). Faodaidh gasaichean stèidhichte air clorine aitler clorty a thoirt seachad rè a 'phròiseas searbhanaidh, a chuidicheas le bhith a' leasachadh ìre searbh agus an dearbhadh.

Gases stèidhichte air bromine: leithid Bromine (BR2) agus Bomine Uolide (IBL). Faodaidh gasaichean stèidhichte air bromine coileanadh searbhagach nas fheàrr a thoirt seachad ann am pròiseasan searbhecing, gu sònraichte nuair a bhios iad a 'suirghe stuthan cruaidh leithid carbach silicoson.

Gasaichean stèidhichte air nitrogen agus ocsrogen: leithid nitrogen trifolide (NF3) agus ocsaidean (O2). Mar as trice bithear a 'cleachdadh na gasaichean sin gus suidheachadh ath-bhualadh atharrachadh anns a' phròiseas searbh gus an roghainn agus stiùireadh an searbh-tàlaidh a leasachadh.

Bidh na gasaichean sin a 'coileanadh clàr-searbh air uachdar an stuth tro mheasgachadh de sputtering corporra agus ath-bheachdan ceimigeach aig àm searbhagan plasma. Tha an roghainn de ghas searbh an urra ris an t-seòrsa stuth airson a bhith air a sheòladh, riatanasan taghteireas an searbhagais, agus an ìre searbhagach a tha thu ag iarraidh.