Tetrafluoride Carbon (CF4)

Paramadairean Teicnigeach

'S e haidrocarbon halogenichte a th' ann an tetrafluoride carbon leis an fhoirmle cheimigeach CF4. Faodar a mheas mar haidrocarbon halogenichte, meatan halogenichte, perfluorocarbon, no mar cho-thàthadh neo-organach. 'S e gas gun dath agus gun bholadh a th' ann an tetrafluoride carbon, do-sgaoilte ann an uisge, so-sgaoilte ann am beinséin agus cloroform. Seasmhach fo theodhachd agus cuideam àbhaisteach, seachain oxidants làidir, stuthan lasanta no lasanta. Gas neo-lasanta, àrdaichidh cuideam a-staigh an t-soithich nuair a bhios e fosgailte do theas àrd, agus tha cunnart ann gun sgàin e agus gun spreadh e. Tha e seasmhach gu ceimigeach agus neo-lasanta. Chan urrainn ach do riochdaire meatailt ammonia-sodium leaghaidh obrachadh aig teòthachd an t-seòmair. 'S e gas a th' ann an tetrafluoride carbon a dh'adhbhraicheas buaidh an taigh-glainne. Tha e gu math seasmhach, faodaidh e fuireach san àile airson ùine mhòr, agus tha e na ghas taigh-glainne gu math cumhachdach. Tha tetrafluoride carbon air a chleachdadh ann am pròiseas gràbhaladh plasma diofar chuairtean amalaichte. Tha e cuideachd air a chleachdadh mar ghas laser, agus tha e air a chleachdadh ann an fuaradairean teòthachd ìosal, fuasglaidhean, bealaidh, stuthan inslitheach, agus fuaradairean airson lorgairean infridhearg. ’S e seo an gas gràbhaladh plasma as motha a thathas a’ cleachdadh ann an gnìomhachas meanbh-eileagtronaigeach. ’S e measgachadh a th’ ann de ghas àrd-ghlanachd tetrafluoromethane agus gas àrd-ghlanachd tetrafluoromethane agus ocsaidean àrd-ghlanachd. Faodar a chleachdadh gu farsaing ann an silicon, dà-ogsaid silicon, nitride silicon, agus glainne fosfosilicate. Tha gràbhaladh stuthan film tana leithid tungsten agus tungsten cuideachd air a chleachdadh gu farsaing ann an glanadh uachdar innealan dealanach, cinneasachadh cheallan grèine, teicneòlas laser, fuarachadh aig teòthachd ìosal, sgrùdadh aodion, agus inneal-glanaidh ann an cinneasachadh chuairtean clò-bhuailte. Air a chleachdadh mar fhuaradair aig teòthachd ìosal agus teicneòlas gràbhaladh tioram plasma airson chuairtean amalaichte. Rabhaidhean airson stòradh: Stòraich ann an taigh-bathair gas fionnar, le deagh fhionnarachadh agus nach eil lasanta. Cùm air falbh bho theine is stòran teas. Cha bu chòir teòthachd an stòraidh a bhith nas àirde na 30°C. Bu chòir a stòradh air leth bho stuthan lasanta (a tha furasta an lasadh) agus oxidants, agus seachain stòradh measgaichte. Bu chòir uidheamachd làimhseachaidh èiginn aodion a bhith san àite stòraidh.

Iarrtas:

① Fuaradair:

Bithear a’ cleachdadh tetrafluoromethane uaireannan mar fhuaradair aig teòthachd ìosal.

② Greanadh:

Tha e air a chleachdadh ann am microsaothrachadh electronics leis fhèin no ann an co-bhonn ri ocsaidean mar ghreamaiche plasma airson silicon, silicon dà-ogsaid, agus silicon nitride.

Pasgan àbhaisteach:

Buannachd:

① Glanachd àrd, an goireas as ùire;

② Neach-dèanamh teisteanas ISO;

③Lìbhrigeadh luath;

④Siostam mion-sgrùdaidh air-loidhne airson smachd càileachd anns gach ceum;

⑤Riatanas àrd agus pròiseas mionaideach airson làimhseachadh siolandair mus tèid a lìonadh;